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Dissertação
Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
Registro en:
CARVALHO, Daniel Belo de. <b> Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas. </b> 2012. 119 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=274>. Acesso em: 30 out. 2012.
https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/662
Autor
Carvalho, Daniel Belo de
Institución
Universidades Confiadas a la Compañía de Jesús en América Latina (Venezuela)
Materias
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
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