info:eu-repo/semantics/conferenceProceedings
XAS and grazing angle XRD of the CoTi2 thin films grown by DC co-sputtering technique
Autor
IGNACIO YOCUPICIO VILLEGAS
HILDA ESPERANZA ESPARZA PONCE
JOSE ALBERTO DUARTE MOLLER
Institución
Resumen
The cobalt-titanium thin films were prepared to 500°C in an INTERCOVAMEX V3 sputtering
system equipped with four magnetrons assisted by DC pulsed and direct DC. A polished highly
oriented (400) silicon wafer was used as substrate. Some references can be read for more
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