Crecimiento y caracterización de películas delgadas de carbón por la técnica MWCVD - Microwave Chemical Vapor Deposition

info:eu-repo/semantics/bachelorThesis

Fecha

2011

Registro en:

546.6812CD A681

http://hdl.handle.net/10784/2808

http://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/3536275

Autor

Arenas Correa, Mónica

Institución

Universidad EAFIT (Colombia)

Materias

Plasma (Gases Ionizados)

Proyecto de Grado. Ingeniería Física

Análisis de Carbón

Deposición química por vapor (CVD)

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