Neste trabalho foi projetado e montado um sistema de evaporação de filmes finos utilizando um laser de Nd:YAG como a fonte de energia de evaporação com comprimentos de onda de 1064 nm e 532 nm. Esta técnica é conhecida como: Deposição com Laser Pulsado (Pulsed Laser Deposition, PLD). O material escolhido para evaporação foi o CdS. A caracterização dos filmes foi feita através de técnicas como difração de raios-X, microscopia eletrônica, transmissão, fotoluminescência, e absorção no infravermelho médio e distante por transformada de Fourier. Verificamos a obtenção de filmes cristalinos com estrutura wurtzita e com eixo c altamente orientado na direção perpendicular à superfície do substrato. Até onde conhecemos este é um resultado original para filmes evaporados com 532 nm. Através dos espectros de absorção e transmissão foram obtidos parâmetros importantes como espessura do filme, índice de refração, gap óptico e variação relativa da concentração de impurezas. Foi constatada uma diminuição na concentração de impurezas por excesso de Cd com o aumento da fluência e a diminuição do comprimento de onda de evaporação. O aumento da fluência também acarretou uma diminuição do gap do material como reflexo das variações na concentração de impurezas. As bandas de impurezas foram estudadas pela técnica de absorção no infravermelho médio e distante por transformada de Fourier. Os espectros de fotoluminescência obtidos mostraram picos de máxima intensidade no verde. Este aspecto é um indicador da alta qualidade dos filmes evaporados