Patentes
Processo Para Melhorar A Aderência De Filmes Finos Depositados Pelo Processo Pecvd Em Embalagens Pet E Embalagem Resultante
Autor
Zanin Maria
Cruz Sandra Andrea
Moraes Mario Antonio Bica De
Institución
Resumen
PROCESSO PARA MELHORAR A ADERÊNCIA DE FILMES FINOS DEPOSITADOS PELO PROCESSO PECVD EM EMBALAGENS PET E EMBALAGEM RESULTANTE. É descrito um processo para melhorar a aderência de filmes finos depositados pelo processo PECVD em embalagens PET que compreende aplicar à dita embalagem um tratamento com plasma de oxigênio e posterior aplicação de filme de PECVD. O tratamento com plasma objetiva promover a incorporação de grupos funcionais, aumentar a rugosidade da superfície e promover o ancoramento do filme a ser depositado, pelo que será melhorada a adesão entre a embalagem e o filme de carbono a ser depositado. O plasma de carbono amorfo hidrogenado é produzido com gases acetilenolargônío utilizando um sistema que consiste de urna câmara de vácuo ou reator (1) dotada de eletrodos (2a, 2b) ligados a uma fonte (6) de tensão elétrica para geração do plasma, o plasma de descarga luminescente sendo produzido na câmara (1) e atuando sobre o substrato (3), um sistema de bombeamento (5) para a produção de vácuo na câmara (1), um sistema de alimentação dos gases (4) à câmara, o plasma sendo gerado pela aplicação de um campo elétrico contínuo entre os eletrodos (2a, 2b) nos gases precursores a baixa pressão. A embalagem PET com aderência melhorada ao filme de carbono também é descrita. BRPI0500712 (A) B29C71/00 B29C71/00
BR2005PI00712 B29C71/00 B29C71/00