Buscar
Mostrando ítems 1-10 de 33
Caracterização química, propriedades ópticas e modelagem de filmes de carbono amorfo hidrogenado halogenado e similares produzidos por deposição à plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2012-12-20)
Filmes finos amorfos de carbono hidrogenado fluorados produzidos por plasma possuem propriedades excelentes, tais como baixo coeficiente de atrito, baixa reatividade química, alta resistência a ácidos, alta hidrofobicidade, ...
Caracterização de Filmes a-C:H:Cl e a-C:H:Si:Cl produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)Films characterization of a-C:H:Cl and a-C:H:Si:Cl made by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and plasma immersion ion implantation and deposition (PIIID)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2016)
Influência da temperatura e do tipo de substrato em filmes de GaN depositados por magnetron sputtering reativo
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2012-02-24)
Semicondutores de gap largo são materiais de grande interesse devido às suas amplas aplicações tecnológicas. Entre os semicondutores de gap largo se destaca o GaN que apresenta características desejáveis para tais aplicações, ...
Um estudo do efeito da composição dos vidros teluretos sobre os índices de refração linear e não linear
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2007-08-20)
Neste trabalho foram estudadas as propriedades ópticas de vidros teluretos do sistema (20-x)Li2O-80TeO2-xTiO2 com x = 0, 5, 10 e 15 mol%. Foram preparadas amostras para cada uma das composições através do convencional ...
Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos a-C:H:CI obtidos por deposição à vapor químico assistido por plasma e deposição e implantação iônica por imersão em plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2011-12-16)
Foram produzidos filmes finos amorfos hidrogenado com incorporação de cloro por duas técnicas: (i) Deposição à Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e (ii) Implantação Iônica e Deposição por Imersão em Plasma (PIIID). ...
Propriedades ópticas de materiais híbridos de sílica dopados com nanocristais de CdSe/ZnS
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2014)
Efeitos da geometria e da composição no espectro de cristais fotônicos 2D
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2012-06-29)
Os cristais fotônicos têm recebido grande atenção da comunidade científica nos últimos anos. As suas aplicações incluem a construção de guias de onda, chips ópticos e células solares, o controle de emissão de radiação e o ...
Caracterização estrutural e propriedades óticas e mecânicas do diglime polimerizado a plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2004-05-24)
Esta dissertação de mestrado trata do estudo da caracterização estrutural, e de propriedades óticas e mecânicas do dietilenoglicoldimetiléter (DIGLIME) polimerizado via plasma. Este tipo de plasma produz filmes poliméricos ...
Efeitos estruturais e ópticos da incorporação de Mn em filmes nanocristalinos de 'GA IND.1-x'MN IND.XN' preparados por sputtering reativo
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2007-02-02)
A recente descoberta de propriedades ferromagnéticas em alguns semicondutores magnéticos diluídos (DMS) trouxe a esta classe de materiais um grande potencial para aplicações em dispositivos de controle de spin. Um DMS é ...
Síntese e caracterização óptica de nanopartículas Ru2Si3 em matriz SiO2/Si implantada com íons Ru+
(Universidade Federal de São Paulo, 2021-12-07)
A presente dissertação versa sobre a busca de materiais eficientes, baseados na tecnologia
padrão do silício existente, para aplicações no infravermelho próximo, em particular no intervalo de
comprimento de onda entre ...