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Filmes finos depositados pela técnica de implantação iônica por imersão em plasma e deposição (IIIPD), utilizando o monômero HMDSN e os gases argônio, hélio e nitrogênioThin films deposited by the Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition technique using the monomer HMDSN mixed with argon, helium and nitrogen
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2016)
Caracterização de Filmes a-C:H:Cl e a-C:H:Si:Cl produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)Films characterization of a-C:H:Cl and a-C:H:Si:Cl made by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and plasma immersion ion implantation and deposition (PIIID)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2016)
Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2013-08-09)
Neste trabalho, filmes finos amorfos de carbono hidrogenado também contendo bromo foram produzidos por duas técnicas: Deposição e Implantação iônica por Imersão em Plasma (DIII). As deposições foram feitas em plasmas ...
Propriedades mecânicas e tribológicas de filmes sintetizados mediante técnica de deposição e implantação iônica por imersão em plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2004)
Neste trabalho, a técnica de implantação iônica e deposição por imersão em plasmas foi utilizada para a síntese de filmes finos de polímero com características distintas dos preparados pelo método convencional de PECVD ...
Estudo das propriedades de barreira de filmes depositados a plasma sobre a liga de alumínio 2024
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2009-08-12)
A liga de alumínio 2024 é largamente utilizda pelas indústris aeronátuca e automobilística devido a sua dureza e baixa densidade. No entanto, a presença de cobre em sua composição, torna a liga suscetível à corrosão ...
Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos a-C:H:CI obtidos por deposição à vapor químico assistido por plasma e deposição e implantação iônica por imersão em plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2011-12-16)
Foram produzidos filmes finos amorfos hidrogenado com incorporação de cloro por duas técnicas: (i) Deposição à Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e (ii) Implantação Iônica e Deposição por Imersão em Plasma (PIIID). ...
Efeito do tratamento a plasma do politetrafluoroetileno (PTFE) nas suas propriedades eletrostáticas e superficiais
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2011-06-28)
Nestre trabalho, Polietrafluroetileno (PTFE) foi tratado por três técnicas: (1) exposição a plasma com gases não polimerizáveis (Ar, He, H2, O2, e N2), num reator a plasma com arranjo capacitivo dos eletrodos, excitado por ...
Tratamento a plasma de polímeros comerciais transparentes
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2010-03-04)
O objetivo deste trabalho foi o estudo da modificação das propriedades estrutural, química e óptica da superfície de certos polímeros comerciais através do emprego das técnicas de Imersão em Plasmas (IP) e Implantação ...
Síntese de filmes finos a-C:H pela técnica de implantação e deposição por imersão em plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2011-12-09)
Neste trabalho foram investigadas as propriedades tribológicas e mecânicas de um filme de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) na superfície de uma liga de aço 16MnCr5. Filmes de a-C:H foram aplicados com o objetivo de ...
Aplicação do eletrocapilaridade na manipulação de microgotas
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2008-07-29)
A modificação da tensão superficial de um líquido depositado sobre uma superfície sólida pela aplicação de um campo elétrico entre estes dois elementos é denominada eletromolhabilidade. Neste trabalho foi avaliada a ...